Spectroscopie de Photoélectrons (XPS-UPS)

La Spectroscopie de photoélectrons est une technique non destructive d’analyse de surface. Elle permet d'obtenir la composition chimique élémentaire, la nature des liaisons, la bande de valence… de la surface d'un matériau sur une profondeur variant de 2 à 10 nm et sur une surface de 900 µm jusque 20 µm. Tous les éléments sauf l’hydrogène et l’hélium sont détectables. L’état de liaison et les pourcentages atomiques sont obtenus par traitement des données. L’utilisation en parallèle d’un canon à ions/clusters permet de réaliser des profils de concentrations. Une sélectivité en profondeur peut être obtenue par augmentation de l’énergie des photons X incident (plus profond) ou par analyse angulaire (moins profond).

• Double anode : Al (Kα) et Ag (Lα)
• Double système de compensation de charges: électrons basse-énergie et ions Ar basse-énergie,
• Étude de la bande de valence par Spectroscopie des Photoélectrons UV (He I et He II),
• Analyse de l’extrême surface des matériaux par technique ISS (Ion Scattering Spectroscopy),
• Possibilité d’analyser l’hydrogène par technique REELS (Reflection Electron Energy Loss Spectroscopy),
• Oxydation réduction in-situ de matériaux à l’aide d’une source d’oxygène atomique et d’une ligne d’injection de monoxyde de carbone,
• Système connecté à un bâti MBE de dépôt, recuit thermique et réactivité,
• Cartographie spectroscopique des surfaces hétérogènes et imagerie chimique,
• Visualisation des échantillons par caméra optique,
• Pilotage de l’analyse et traitement des données via le logiciel Avantage.

Extrême surface des matériaux : matériaux massifs, couches-minces, poudres, isolants, conducteurs, magnétiques. Les échantillons doivent être compatibles avec l’ultra-vide (pas de liquides ou de matériaux pouvant fortement dégazer).